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1.
采用基于密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法对Sc、Ce单掺和共掺后CrSi2的几何结构、电子结构、复介电函数、吸收系数和光电导率进行了计算。结果表明:Sc、Ce掺杂CrSi2的晶格常数增大,带隙变小。本征CrSi2的带隙为0.386 eV,Sc、Ce单掺及共掺CrSi2的禁带宽度分别减小至0.245 eV、0.232 eV、0.198 eV,费米能级均向低能区移动进入价带。由于Sc的3d态电子和Ce的4f态电子的影响,Sc、Ce掺杂的CrSi2在导带下方出现了杂质能级。掺杂后的CrSi2介电函数虚部第一介电峰峰值增加且向低能方向移动,说明Sc、Ce掺杂使得CrSi2在低能区的光跃迁强度增强,Sc-Ce共掺时更明显。Sc、Ce掺杂的CrSi2吸收边在低能方向发生红移,在能量大于21.6 eV特别是在位于31.3 eV的较高能量附近,本征CrSi2几乎不吸收光子,Sc单掺和Sc-Ce共掺CrSi2吸收光子的能力有所增强,并在E=31.3 eV附近形成了第二吸收峰。说明掺杂Sc、Ce改善了CrSi2对红外和较高能区光子的吸收。在小于3.91 eV的低能区掺杂后的CrSi2光电导率增加。在20.01 eV<E<34.21 eV时,本征CrSi2光电导率为零,但Sc、Ce掺杂后的体系不为零,掺杂拓宽了CrSi2的光响应范围。研究结果为CrSi2基光电器件的应用与设计提供了理论依据。  相似文献   
2.
Surface plasmon can trigger or accelerate many photochemical reactions, especially useful in energy and environmental industries. Recently, molecular adsorption has proven effective in modulating plasmon-mediated photochemistry, however the realized chemical reactions are limited and the underlying mechanism is still unclear. Herein, by using in situ dark-field optical microscopy, the plasmon-mediated oxidative etching of silver nanoparticles (Ag NPs), a typical hot-hole-driven reaction, is monitored continuously and quantitatively. The presence of thiol or thiophenol molecules is found essential in the silver oxidation. In addition, the rate of silver oxidation is modulated by the choice of different thiol or thiophenol molecules. Compared with the molecules having electron donating groups, the ones having electron accepting groups accelerate the silver oxidation dramatically. The thiol/thiophenol modulation is attributed to the modulation of the charge separation between the Ag NPs and the adsorbed thiol or thiophenol molecules. This work demonstrates the great potential of molecular adsorption in modulating the plasmon-mediated photochemistry, which will pave a new way for developing highly efficient plasmonic photocatalysts.  相似文献   
3.
WS2由于其优异的物理和光电性质引起了广泛关注。本研究基于第一性原理计算方法,探索了本征单层WS2及不同浓度W原子替位钇(Y)掺杂WS2的电子结构和光学特性。结果表明本征单层WS2为带隙1.814 eV的直接带隙半导体。进行4%浓度(原子数分数)的Y原子掺杂后,带隙减小为1.508 eV,依旧保持着直接带隙的特性,随着Y掺杂浓度的不断增大,掺杂WS2带隙进一步减小,当浓度达到25%时,能带结构转变为0.658 eV的间接带隙,WS2表现出磁性。适量浓度的掺杂可以提高材料的导电性能,且掺杂浓度增大时,体系依旧保持着透明性并且在红外光和可见光区对光子的吸收能力、材料的介电性能都有着显著提高。本文为WS2二维材料相关光电器件的研究提供了理论依据。  相似文献   
4.
催化裂化是石油化工的核心单元之一.从催化裂化尾气中分离出来的碳四馏分富含许多的不饱和烯烃,如1-丁烯、顺、反式-2-丁烯以及少量的1,3-丁二烯,这些不饱和烯烃可以通过后续聚合反应,生成合成橡胶和工程塑料的重要原料,具有重要的应用价值.上述工艺过程对原料中1,3-丁二烯的含量(<100~200 ppm)有严苛的要求.采用选择性加氢技术对碳四馏分中的1,3-丁二烯进行选择性加氢,将其转化为更高附加值的单烯烃是一个理想的解决方案.然而,1,3-丁二烯加氢反应得到的单烯烃可能发生深度加氢得到副产物丁烷.因此,开发高效选择性加氢催化剂对碳四资源的利用具有重要的现实意义.另一方面,1,3-丁二烯加氢反应可以作为模型反应,用来考察选择性加氢催化剂的性能.基于此,该反应无论在工业界还是学术界均受到广泛关注.尽管如此,有关1,3-丁二烯加氢催化剂研究进展方面的综述极少.仅有关于1,3-丁二烯加氢作为模型反应的综述报道.本文对过去半个世纪以来1,3-丁二烯加氢反应中不同催化剂的发展历程进行系统综述,特别是包括Pd,Pt和Au等的单一贵金属催化剂.重点介绍以下内容:(1)固体催化剂构效关系,包括活性金属尺寸效应、晶面和形貌效应以及载体效应(晶相、孔道和酸碱性);(2)高性能催化剂的设计新策略,如单原子催化剂、核壳结构催化剂、金属-离子液复合催化体系以及载体的形貌调控;(3)催化剂的反应机理和失活机理.提出了1,3-丁二烯选择性加氢高性能催化剂开发面临的挑战,并对潜在的发展方向进行了展望.本文认为随着纳米技术和金属纳米材料合成方法的快速发展,对贵金属活性组分进行原子层面上的调控(包括形貌、尺寸以及单原子配位环境等)已成为可能.这将有助于研制出一类新型高性能选择性加氢催化材料,从而实现高转化率条件下高附加值单烯烃的定向转化.此外,载体的酸碱性和孔道结构的调控有助于进一步调节催化剂的抗积炭性能,也是未来发展的一个重要方向.  相似文献   
5.
Matrix metalloproteinases (MMPs) are a large family of zinc-dependent endoproteases known to exert multiple regulatory roles in tumor progression. A variety of chemical classes have been explored for targeting individual MMP isoforms. In the present study, we further developed our isatin based scaffold BB0223107 capable of binding to and inactivating MMP-2 in a zinc-independent manner (Agamennone et al., 2016). Forty four new compounds were synthesized based on the modified BB0223107. All compounds were tested in enzyme inhibition assays against MMP-2, ?8 and ?13. SAR studies demonstrated that 5-het(aryl)-3-aminoindolin-2-ones (3739) were active toward MMP-2 and MMP-13. The most potent compounds 33 and 37 displayed an IC50 of 3 µM against MMP-13 and showed a negligible activity toward MMP-8; almost all new compounds were inactive toward MMP-8. Replacement of the isatin ring with a biaryl system (compound 33) did not decrease the potency against MMP-13 but reduced the selectivity. Structure-based computational studies were carried out to rationalize the inhibitory activity data. The analysis of binding geometries confirmed that all fragments occupied the S1′ site in the three enzymes while no ligand was able to bind the catalytic zinc ion. To the best of our knowledge, this is the first example of 3-aminoindolin-2-one-based MMP inhibitors that, based on the computer modeling study, do not coordinate the zinc ion. Thus, the het(aryl)-3-aminoindolin-2-one derivatives emerge as a drug-like and promising chemotype that, along with the hetaryl variations, represents an alternative and thrifty tool for chemical space exploration aimed at MMP inhibitor design.  相似文献   
6.
大尺寸低缺陷碳化硅(SiC)单晶体是功率器件和射频(RF)器件的重要基础材料,物理气相传输(physical vapor transport, PVT)法是目前生长大尺寸SiC单晶体的主要方法。获得大尺寸高品质晶体的核心是通过调节组分、温度、压力实现气相组分在晶体生长界面均匀定向结晶,同时尽可能减小晶体的热应力。本文对电阻加热式8英寸(1英寸=2.54 cm)碳化硅大尺寸晶体生长系统展开热场设计研究。首先建立描述碳化硅原料受热分解热质输运及其多孔结构演变、系统热输运的物理和数学模型,进而使用数值模拟方法研究加热器位置、加热器功率和辐射孔径对温度分布的影响及其规律,并优化热场结构。数值模拟结果显示,通过优化散热孔形状、保温棉的结构等设计参数,电阻加热式大尺寸晶体生长系统在晶锭厚度变化、多孔介质原料消耗的情况下均能达到较低的晶体横向温度梯度和较高的纵向温度梯度。  相似文献   
7.
《Discrete Mathematics》2022,345(11):112983
We determine the 22 isomorphism classes of 4-GDDs with group type 3562 and compare their automorphism groups. We also observe for the first time an example of a three dimensional Pasch triangle in a GDD.  相似文献   
8.
绪言课的教学效果对于学生后续学习起着举足轻重的作用,基于对高一化学绪言课教学意蕴的分析,选取了历史与现代、生活与科研、国内与国外等多种情境素材,并设计成对比的教学情境,竭力将学生带进真实的化学科学,引领高中化学学习的方向,打开学生的国际视野,培养学生的家国情怀。并结合问卷调查对本节课教学效果进行了反思。  相似文献   
9.
A one-step Rh-catalyzed site-selective ortho-C−H alkynylation of perylene as well as naphthalene mono- and diimides is reported. A single step regioselective access to ortho-C−H alkynylated derivatives of these ryleneimides not only increases the step economy of the ortho-functionalization on these dyes but also provides a quick access route towards highly functionalized dyes that have potential optoelectronic applications. Increased solubility of tetra(triisopropylsilyl)acetylenyl PDIs in organic solvents greatly enhances their utility for further derivatization.  相似文献   
10.
将TiNi基记忆合金薄膜与光纤相结合可制成智能化、集成化且成本经济的微机电系统和微传感器件.本文采用磁控溅射法在二氧化硅光纤基底上制备TiNi记忆合金薄膜,系统讨论了溅射工艺参数以及后续退火处理对薄膜质量的影响.采用自研制光纤镀膜掩膜装置在直径为125μm的光纤圆周表面上形成均匀薄膜.实验表明:在靶基距、背底真空度、Ar气流量和溅射时间一定的条件下,溅射功率存在最佳值;溅射压强较大时,薄膜沉积速率较低,但薄膜表面粗糙度较小.进行退火处理后,薄膜形成较良好的晶体结构,Ti49.09Ni50.91薄膜中马氏体B19′相和奥氏体B2相共存,但以B19′为主.根据本文研究结果,在玻璃光纤基底上制备高质量的TiNi基记忆合金薄膜是可实现的,本工作为下一步研制微机电系统和微型传感器做了基础准备.  相似文献   
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